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半導体プロセス環境における化学汚染とその対策
斉木 篤/平岩 篤/谷嶋 幹子/呂 俊民/西山 泰史/五味 弘/竹田 充恭/石原 良夫/島田 孝/井上 實/木村 照/藤本 武利/武田 直樹/星野 邦広/長谷 潮/中野 寿夫/岩田 照史/原田 宙幸/小林 貞雄/籔本 周邦
新版シリコンウェーハ表面のクリーン化技術
服部 毅/北島 洋/山本 秀和/嵯峨 幸一郎/福田 哲生/清水 博文/足立 元明/奥山 喜久夫/山川 洋幸/斉藤 昭男/稲葉 仁/滝山 真功/森永 均/鈴木 浩助/嶋崎 綾子/宮崎 守正/籔本 周邦/北野 友久/服部 毅
超高純度ガスの科学1 コンセプト編 (Surface science technology ser)
小宮 啓義/福本 隼明/新田 雄久/富岡 秀起/水上 浩一郎/榎並 弘充/柴田 直/暮石 芳憲/安済 範夫/籔本 周邦/国井 泰夫/宮脇 守/川辺 一郎/森田 瑞穂/平山 昌樹/室田 淳一/小野 昭一/中村 守孝/新田 雄久/大見 忠弘